高機能誘電体材料市場（2018年6月調査）
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調査資料詳細データ
本調査レポートは、定期刊行物 Yano E plus 2018年7月号 に掲載されたものです。
～LSIの配線微細化に伴い層間絶縁膜は低誘電率化、
一方、ゲート膜には高誘電率材料が必要で、新材料の模索が続く～
1．高機能誘電体材料とは
2．低誘電率（Low-k）薄膜材料
3．高誘電率（High-k）薄膜材料
4．高周波対応高誘電率バルク材料
5．高機能誘電体材料の市場規模推移と予測
【図・表1．低誘電率材料のWW市場規模推移と予測
（数量・金額：2015-2020年予測）】
【図・表2．高誘電率材料の国内およびWW市場規模推移と予測
（数量・金額：2015-2020年予測）】
6．高機能誘電体材料に関連した企業および研究機関の取組動向
6-1．関東化学株式会社
6-2．国立研究開発法人産業技術総合研究所（産総研）
6-3．国立大学法人東京工業大学
【図1．ECRスパッター装置（JSW-AFTY AFTEX-3400）の原理図（左）と外観（右）】
【図2．Hf系MONOSトランジスターの構造】
【図3．HfNゲート積層構造のin-situプロスによる形成】
【図4．PtHfSiのコンタクト抵抗測定素子】
【図5．グローブボックス付設型真空蒸着装置（ALS E-100J）の模式図（左）と外観（右）】
【図6．有機ゲート絶縁膜を有するトップゲート型フレキシブル有機半導体トランジスター】
6-4．国立大学法人東京大学
(1)HfO2の多元化による高性能化
(2)構造制御に依る誘電率の向上
(3)高速熱処理に基づくHigh-k膜の構造制御
(4)酸化物界面のダイポール形成
6-5．株式会社トリケミカル研究所
【表1．トリケミカル研究所の高機能誘電体材料ラインナップ】
6-6．日本ゼオン株式会社
【図7．「ZEONEX®」の応用事例（コネクター、アンテナ）】
【図8．「ZEONEX®」が使われる高周波電子部品】
6-7．国立研究開発法人物質・材料研究機構（NIMS）
6-8．利昌工業株式会社
7．高機能誘電体材料の将来見通し
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