薄膜形成技術市場
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調査資料詳細データ
調査期間：2014年1月 ※当レポートは左記の期間に調査を実施した商品です
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半導体産業と共に発展し、多方面へ展開。先端技術分野として革新的な技術開発が絶えず続けられている
【調査要領】
（１）調査主旨と方法
本レポートは薄膜形成技術市場の概要を捉えることを目的とした。
主要プレーヤーへの電話ヒアリング（1社）を主体に文献、ウェブ調査を併用した。
（２）調査期間
2013年11月26日～12月25日（Yano E plus2014年1月号再編集）
（３）企画・制作
エネルギー＆機械産業グループ
【収録内容】
1．薄膜と薄膜形成技術
2．薄膜形成技術の種類
【表1．代表的な薄膜形成技術の種類】
2-1．真空蒸着法
【図1．典型的な真空蒸着法の模式図】
2-2．イオンプレーティング法
【図2．典型的なイオンプレーティング法の模式図】
2-3．スパッタリング法
【図3．典型的なスパッタリング法の模式図】
【図4．典型的なスパッタリング装置の外観写真】
2-4．熱CVD法
2-5．プラズマCVD法
【図5．典型的なプラズマCVD法の模式図】
【図6．典型的なプラズマCVD装置の外観写真】
2-6．光CVD法
2-7．有機金属CVD（MOCVD：Metal Organic CVD）法
2-8．液相エピタキシャル法
【図7．典型的な液相エピタキシャル装置の外観写真】
2-9．ゾルゲル法
3．薄膜形成技術の代表的需要分野
3-1．半導体分野
3-2．液晶分野
3-3．光・レーザー分野
3-4．磁気分野
3-5．熱分野
3-6．その他分野
4．薄膜形成技術の市場規模推移と予測
【図・表1．薄膜形成装置の国内市場規模推移と予測（数量・金額：2010-2015年予測）】
【図・表2．薄膜形成装置のWW市場規模推移と予測（数量・金額：2010-2015年予測）】
【図・表3．薄膜形成装置の種類別国内市場規模推移と予測（金額：2010-2015年予測）】
【図・表4．薄膜形成装置の需要分野別国内市場規模推移と予測（金額：2010-2015年予測）】
5．薄膜形成技術の企業シェア
【図・表5．薄膜形成装置の国内市場における企業シェア（2012年）】
6．薄膜形成技術の主要取組企業の動向
6-1．アプライドマテリアルズジャパン株式会社
6-2．株式会社アルバック
6-3．キャノンアネルバ株式会社
6-4．芝浦メカトロニクス株式会社
6-5．株式会社昭和真
6-6．株式会社シン
6-7．東京エレクトロン株式会社
7．先端薄膜形成技術の進展
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